作者:宋檢 時間:2022-11-18 來源:互聯(lián)網(wǎng)
中科院光電技術(shù)研究所微電子專用設(shè)備研發(fā)團隊,近日自主研制成功紫外納米壓印光刻機。該機器將新型納米壓印高分辨力光刻技術(shù)與紫外光刻技術(shù)有機結(jié)合,成本僅為國外同類設(shè)備的1/3,并在同一加工平臺上實現(xiàn)了微米到納米級的跨尺度圖形加工,使我國微納實用制造水平邁上新的臺階。
光刻機是實現(xiàn)微納圖形加工的專用高端設(shè)備,它的出現(xiàn)使集成電路得以誕生,引發(fā)了第三次工業(yè)革命,人類進入信息時代。長期以來,發(fā)達國家對光刻機這樣的戰(zhàn)略裝備采取“禁運”和技術(shù)封鎖,即使不禁運,光刻機也價格昂貴,嚴重制約了我國高端信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。
微電子裝備總體研究室主任胡松表示,設(shè)備采用的新型納米對準技術(shù),成功將原光刻設(shè)備的對準精度由亞微米量級提升至納米量級,是實現(xiàn)功能化器件加工的關(guān)鍵。其應用突破了現(xiàn)有納米尺度結(jié)構(gòu)加工的瓶頸問題,為高精度納米器件的加工提供了技術(shù)保障。設(shè)備可廣泛應用于微納流控芯片加工、微納光學元件、微納光柵、NMEMS器件等微納結(jié)構(gòu)器件的制備。
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