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GB/T 34649-2017 磁控濺射用釕靶現行

作者：百檢網時間：2021-05-26

標準號：GB/T 34649-2017
中文標準名稱：磁控濺射用釕靶
英文標準名稱：Magnetron sputtering ruthenium target
標準狀態：現行,發布于2017-09-29; 實施于2018-04-01; 廢止
標準類型：國家標準
標準性質：推薦性
發布日期：2017-09-29
實施日期：2018-04-01
中國標準分類號：77.150.99
國際標準分類號：77.150.99
歸口單位：全國有色金屬標準化技術委員會
執行單位：全國有色金屬標準化技術委員會
主管部門：中國有色金屬工業協會
起草單位：有研億金新材料有限公司;有色金屬技術經濟研究院
相近標準：20140932-T-610 磁控濺射用釕靶; SJ/T 10478-1994 磁控濺射設備通用技術條件; YS/T 719-2009 平面磁控濺射靶材光學薄膜用硅靶; YS/T 718-2009 平面磁控濺射靶材光學薄膜用鈮靶; JB/T 8945-2010 真空濺射鍍膜設備; YS/T 1024-2015 濺射用鉭靶材; JB/T 8945-1999 真空濺射鍍膜設備; GB/T 12852-2001 磁控管總規范; JB/T 4081-2011 真空技術濺射離子泵; JB/T 4082-1991 濺射離子泵技術條件

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