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D-SIMS

作者:百檢網 時間:2021-09-15 來源:互聯網

  D-SIMS分析如何做?動態二次離子質譜技術(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry,D-SIMS)是一種非常靈敏的表面分析技術,根據二次離子的質量來測定元素種類,具有*高分辨率和檢出限的表面分析技術。

檢測范圍

  1,鑒別在金屬、 玻璃、陶瓷、薄膜或粉末表面上的無機物層或有機物層。

  2,氧化物表層、腐蝕膜、瀝濾層和擴散層沿深度的濃度分布。

  3,經擴散或離子注入到半導體材料中的微量摻雜劑(≤1000ppm)沿深度的濃度分布。

  4,在脆化金屬合金、氣相沉積薄膜、水合玻璃和礦物質中的氫濃度和氫沿深度的分布。

  5,定量分析固體中的痕量元素。

  6,分析地質樣品和含銀樣品中的同位素豐度。

  7,用同位素富集材料進行示蹤研究(如研究擴散和氧化)。

  8,礦物質、多相陶瓷和金屬中的相分布。

  9,由晶界偏析、內氧化或沉淀引起的第二相分布。

檢測標準

  3ASTM E1504-2011次級離子質譜法(SIMS)中質譜數據報告的標準實施規程

  4ASTM E1880-2006用次級離子質譜法(SIMS)對組織低溫部分分析規程

  **STM E1881-2006用次級離子質譜法(SIMS)對細胞培養分析指南

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D-SIMS流程

  1、前期咨詢

  2、郵寄D-SIMS樣品或上門取樣。

  3、工程師報價

  4、支付檢測費用,開展實驗。

  5、完成實驗,出具檢測報告。

  6、郵寄檢測報告,售后服務。

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