半導體水基清潔劑首要用于清潔外表沾污有白臘、油脂和油脂類高分子化合物以及外表沾污有金屬原子和金屬離子等。在半導體分立器材和中、小規(guī)模集成電路中能夠徹底替代傳統(tǒng)半導體清潔技術中運用的清潔液。百檢網對其做了北京劑類分析
1一、商品用處
半導體水基清潔劑首要用于清潔外表沾污有白臘、油脂和油脂類高分子化合物以及外表沾污有金屬原子和金屬離子等。在半導體分立器材和中、小規(guī)模集成電路中能夠徹底替代傳統(tǒng)半導體清潔技術中運用的清潔液。
二、商品特色
該清潔劑清潔作用相當于或略優(yōu)于傳統(tǒng)清潔技術，本錢卻大大下降，只要傳統(tǒng)清潔技術本錢的10~30%，并且無毒無腐蝕性、對人體無損害、對環(huán)境無污染，經濟效益明顯。

三、運用技術
制造清潔液時，將去離子水加熱到40-60℃，但不要超越60℃。或許用室溫去離子水制造亦可。然后按下列體積比進行制造。水基清潔劑：去離子水=1：19將制造好的水基清潔劑倒入石英杯中,清潔液應浸沒過硅片或晶體為宜,然后將石英杯置于超聲波清潔設備中（槽中應加適當的去離子水）進行超聲波清潔5分鐘左右,倒掉清潔液,再用熱去離子水沖刷5分鐘左右,以沖凈為宜。
四、注意事項
本品呈堿性，若不慎將本品濺到肌膚上應立即用清水沖刷，嚴重者應及時就醫(yī)。
五、包裝貯存
塑料桶包裝，能夠依照客戶請求。貯存于陰涼、通風倉庫。

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