作者:百檢網(wǎng) 時間:2021-10-28 來源:互聯(lián)網(wǎng)
全局缺陷:光刻對準誤差、工藝參數(shù)隨機起伏、線寬變化等;在成熟、可控性良好的工藝線上,可減少到*少,甚至幾乎可以消除。
局域缺陷:氧化物針孔等點缺陷,不可完全消除,損失的成品率更高。
點缺陷:冗余物、丟失物、氧化物針孔、結泄漏
IC工藝:氧化、擴散、鍍膜、光刻等
厚膜工藝:基板加工、制版、絲網(wǎng)印刷、燒結、激光調阻、分離元器件組裝等
薄膜工藝:基板加工、制版、薄膜制備、光刻、電鍍等
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