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電子束蒸發(fā)鍍膜及多弧鍍膜聯(lián)合設(shè)備

作者:百檢網(wǎng) 時(shí)間:2021-11-11 來源:互聯(lián)網(wǎng)

主要規(guī)格及技術(shù)指標(biāo)

真空系統(tǒng):TRP-36機(jī)械泵+FF160-620C分子泵;ZDF-5227數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)及金屬規(guī)管;GD-J8手動(dòng)充氣閥; 電子束蒸發(fā)鍍膜室:Φ450×500 mm空間立式全不銹鋼結(jié)構(gòu);樣品公轉(zhuǎn)速度0~60RPM;樣品尺寸Φ70;樣品加熱溫度700℃±1℃;溫度PID可編程控;真空室上蓋電動(dòng)升降; 電子束沉積薄膜制備系統(tǒng):電動(dòng)4點(diǎn)定位4工位電子束蒸發(fā)坩堝,每個(gè)坩堝容量大于20ml,功率*大10KW;設(shè)有氣動(dòng)蒸發(fā)源擋板一套;設(shè)有離子轟擊電*及電源一套; 電子束沉積薄膜制備系統(tǒng)真空室配有2只Dg6手動(dòng)氣路截止閥,設(shè)有1路高精度質(zhì)量流量控制器,流量0~50 SCCM; 多弧離子鍍膜室:Φ450×500 mm空間立式全不銹鋼結(jié)構(gòu);樣品公轉(zhuǎn)速度0~60RPM;樣品尺寸Φ70;樣品加熱溫度700℃±1℃;溫度PID可編程控;真空室上蓋電動(dòng)升降; 多弧離子鍍膜室與電子束蒸發(fā)鍍膜室共用一套分子泵系統(tǒng),各室與真空獲得系統(tǒng)之間設(shè)有手動(dòng)閘板閥。

主要功能及特色

用于電子束涂層/多弧離子鍍涂層制備

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