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無掩模曝光機

作者:百檢網 時間:2021-11-11 來源:互聯網

  • 詳細信息

    主要技術指標:

    ⑴曝光圖形要求:   1.無需光刻掩模,通過電腦輸入圖形,獲得所需曝光圖形光。   2.適合特征尺寸為1微米以下至0.5微納的圖形光刻,   3.曝光速度調節靈活,在選擇大圖形特征尺寸曝光時,可調節光路進行快速曝光。   4.適合厚膠光刻工藝,焦深要求7~25um, ⑵曝光光學系統要求:   5.標準帶通配置    •>510nm用于對準和基板檢查    • 435nm+/- 5nm    • 365nm +/- 5nm    •寬譜曝光模式   6.拼接灰度255級   7.CCD相機Camera ⑶集成軟件功能:   8.自動聚焦功能   9.場校準光學系統/平臺   10.自動對準套刻功能   11.用戶自定義軟件修改 ⑷平臺:   12.高精度線性驅動平臺   13.X和Y方向運動要求    • 總行程100 mm    • 運動精度+/- 200 nm per axis    • 重復性 +/- 50 nm per axis   14.Z方向運動要求    •總的運動行程25 mm    • 運動精度+/- 200 nm    • 重復性+/- 75 nm   15.Theta方向運動平臺    • 總行程360 degrees    • 精度+/-5 arc sec    • 重復性+/-2 arc se ⑸設備環境要求:   16.適合1000級及更潔凈恒溫恒濕黃光室使用 17.+/- 20C 室溫控制范圍,30-50%相對濕度范圍

    主要功能:

    用于硅片、光學玻璃等表面光刻膠圖形曝光,制作微納米級圖形。

  • 服務信息

    服務內容:

    用于硅片、光學玻璃等表面光刻膠圖形曝光,制作微納米級圖形

    收費標準:

    5000

    用戶須知:

    在不影響科研的情況下對外開放

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    8、檢測報告權威有效、中國通用;

    客戶案例展示

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