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产品 标准

背面濕法刻蝕設備

作者:百檢網 时间:2021-11-11 来源:互联网

  • 詳細信息

    主要技術指標:

    該設備通過將硅片放置到工藝腔內,使用純水和多種不同的化學藥品沖洗硅片背面,利用化學反應來刻蝕硅片背面所附著的各種薄膜。

    主要功能:

    該設備可以對硅片進行處理,來去除硅片背面的各種薄膜,防止交叉沾污

  • 服務信息

    服務內容:

    對硅片進行處理,來去除硅片背面的各種薄膜,防止交叉沾污

    收費標準:

    面議

    用戶須知:

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