標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/Z 32490-2016
中文標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)：表面化學(xué)分析 X射線(xiàn)光電子能譜 確定本底的程序
英文標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)：Surface chemical analysis—X-ray photoelectron spectroscopy—Procedures for determining backgrounds
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行,發(fā)布于2016-02-24; 實(shí)施于2017-01-01; 廢止
標(biāo)準(zhǔn)類(lèi)型：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)：指導(dǎo)性技術(shù)文件
發(fā)布日期：2016-02-24
實(shí)施日期：2017-01-01
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)號(hào)：71.040.40
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)號(hào)：71.040.40
歸口單位：全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
執(zhí)行單位：全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
主管部門(mén)：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位：清華大學(xué);中山大學(xué)
采標(biāo)情況：本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ISO國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)：ISO/TR 18932:2005。
采標(biāo)中文名稱(chēng):表面化學(xué)分析 X射線(xiàn)光電子能譜 確定本底的程序。
相近標(biāo)準(zhǔn)：20110878-T-469 表面化學(xué)分析 X射線(xiàn)光電子能譜 確定本底的程序; GB/T 30704-2014 表面化學(xué)分析 X射線(xiàn)光電子能譜 分析指南; 20121403-T-469 表面化學(xué)分析 X射線(xiàn)光電子能譜 分析指南; GB/T 36401-2018 表面化學(xué)分析 X射線(xiàn)光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報(bào)告; 20151802-T-469 表面化學(xué)分析 X射線(xiàn)光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報(bào)告; 表面化學(xué)分析 X射線(xiàn)光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報(bào)告; 表面化學(xué)分析 X射線(xiàn)光電子能譜 X射線(xiàn)光電子能譜儀日常性能的評(píng)估方法; GB/T 22571-2017 表面化學(xué)分析 X射線(xiàn)光電子能譜儀 能量標(biāo)尺的校準(zhǔn); 20150514-T-469 表面化學(xué)分析 X射線(xiàn)光電子能譜儀 能量標(biāo)尺的校準(zhǔn); 20020615-T-469 表面化學(xué)分析 X射線(xiàn)光電子能譜儀 能量標(biāo)尺的校準(zhǔn)