GB/T 31225-2014 橢圓偏振儀測量硅表面上二氧化硅薄層厚度的方法 現行
作者：百檢網 時間：2021-05-26
中文標準名稱：橢圓偏振儀測量硅表面上二氧化硅薄層厚度的方法
英文標準名稱：Test method for the thickness of silicon oxide on Si substrate by ellipsometer
標準狀態：現行,發布于2014-09-30; 實施于2015-04-15; 廢止
標準類型：國家標準
標準性質：推薦性
發布日期：2014-09-30
實施日期：2015-04-15
中國標準分類號：17.040.01
國際標準分類號：17.040.01
歸口單位：全國納米技術標準化技術委員會
執行單位：全國納米技術標準化技術委員會
主管部門：中國科學院
起草單位：上海交通大學;納米技術及應用國家工程研究中心
相近標準：20078473-T-491 橢圓偏振儀測量硅表面上二氧化硅薄層厚度的方法; GB/T 20020-2013 氣相二氧化硅; 20102180-T-606 氣相二氧化硅; 20031529-T-606 氣相二氧化硅; GB/T 20020-2005 氣相二氧化硅; QB/T 2346-2007 牙膏用二氧化硅; QB/T 2346-1997 牙膏用二氧化硅; HG/T 4526-2013 消光用二氧化硅; GB/T 32661-2016 球形二氧化硅微粉; 20082071-T-609 球形二氧化硅微粉
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