標準號:GB/T 24576-2009
中文標準名稱:高分辯率X射線衍射測量GaAs襯底生長的AlGaAs中Al成分的試驗方法
英文標準名稱:Test method for measuring the Al fraction in AlGaAs on GaAs substrates by high resolution X-ray diffraction
標準狀態:現行,發布于2009-10-30; 實施于2010-06-01; 廢止
標準類型:國家標準
標準性質:推薦性
發布日期:2009-10-30
實施日期:2010-06-01
中國標準分類號:29.045
國際標準分類號:29.045
歸口單位:全國半導體設備和材料標準化技術委員會
執行單位:全國半導體設備和材料標準化技術委員會
主管部門:國家標準化管理委員會
起草單位:信息產業部專用材料質量監督檢驗中心;中國電子科技集團公司第四十六研究所
采標情況:本標準等同采用其他國際標準:SMEI M63-0306。
采標中文名稱:準則:采用高分辨率X光衍射法測量砷化鎵襯底上AlGaAs中Al百分含量的測試方法。
相近標準:20070860-T-469 高分辯率X射線衍射測量GaAs襯底生長的AlGaAs中Al成分的試驗方法; JB/T 8258-1995 攝影鏡頭分辯率測試圖; JB/T 8248.6-1995 照相鏡頭照相分辯率測定方法; YY/T 0586-2005 醫用高分子制品X射線不透性試驗方法; YY/T 0586-2016 醫用高分子制品 X射線不透性試驗方法; EJ/T 903.4-1994 閃爍體性能測量方法 固有幅度分辯率; SL 536-2011 X射線衍射應力測定裝置校驗方法; JB/T 7799-1995 彩色擴印機鏡頭分辯率測試片; SJ/T 10624-1995 X射線管壽命試驗方法; JB/T 11144-2011 X射線衍射儀
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