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GB/T 24578-2009 硅片表面金屬沾污的全反射X光熒光光譜測試方法被代替

作者：百檢網時間：2021-05-26

標準號：GB/T 24578-2009
中文標準名稱：硅片表面金屬沾污的全反射X光熒光光譜測試方法
英文標準名稱：Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy
標準狀態：被代替,發布于2009-10-30; 實施于2010-06-01; 被代替于2017-01-01; 廢止
標準類型：國家標準
標準性質：推薦性
發布日期：2009-10-30
實施日期：2010-06-01
中國標準分類號：29.045
國際標準分類號：29.045
歸口單位：全國半導體設備和材料標準化技術委員會
執行單位：全國半導體設備和材料標準化技術委員會
主管部門：國家標準化管理委員會
起草單位：有研半導體材料股份有限公司;萬向硅峰電子有限公司
被以下標準代替：被GB/T24578-2015GB/T24578-2015全部代替
相近標準：GB/T 24578-2015 硅片表面金屬沾污的全反射X光熒光光譜測試方法; 20120277-T-469 硅片表面金屬沾污的全反射X光熒光光譜測試方法; 20070862-T-469 硅片表面金屬沾污的全反射X光熒光光譜測試方法; 半導體晶片表面金屬沾污的測定全反射X射線熒光光譜法; 20192091-T-469 表面化學分析全反射X射線熒光光譜法（TXRF）測定硅片表面元素污染; 表面化學分析全反射X射線熒光光譜法（TXRF）測定硅片表面元素污染; GB/T 30701-2014 表面化學分析硅片工作標準樣品表面元素的化學收集方法和全反射X射線熒光光譜法(TXRF)測定; 20110879-T-469 表面化學分析硅片工作標準樣品表面元素的化學收集方法和全反射X射線熒光光譜法(TXRF)測定; 表面化學分析水的全反射X射線熒光光譜分析; GB/T 6621-2009 硅片表面平整度測試方法

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