標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 20175-2006
中文標(biāo)準(zhǔn)名稱：表面化學(xué)分析 濺射深度剖析 用層狀膜系為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法
英文標(biāo)準(zhǔn)名稱：Surface chemical analysis-Sputter depth profiling-Optimization using layered systems as reference materials
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行,發(fā)布于2006-03-27; 實(shí)施于2006-11-01; 廢止
標(biāo)準(zhǔn)類型：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)：推薦性
發(fā)布日期：2006-03-27
實(shí)施日期：2006-11-01
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)：71.040.40
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)：71.040.40
歸口單位：全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
執(zhí)行單位：全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
主管部門：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位：清華大學(xué)電子工程系
采標(biāo)情況：本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ISO國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)：ISO 14606:2000。
采標(biāo)中文名稱:表面化學(xué)分析 濺射深度剖析 用層狀膜系為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法。
相近標(biāo)準(zhǔn)：20020617-T-469 表面化學(xué)分析 濺射深度剖析 用層狀膜系為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法; GB/T 29557-2013 表面化學(xué)分析 深度剖析 濺射深度測(cè)量; 20110886-T-469 表面化學(xué)分析 深度剖析 濺射深度測(cè)量; 20071058-T-469 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 用多δ層參考物質(zhì)評(píng)估深度分辨參數(shù)的方法; GB/T 22572-2008 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 用多δ層參考物質(zhì)評(píng)估深度分辨參數(shù)的方法; GB/T 32999-2016 表面化學(xué)分析 深度剖析 用機(jī)械輪廓儀柵網(wǎng)復(fù)型法測(cè)量濺射速率; 20131700-T-469 表面化學(xué)分析 深度剖析 用機(jī)械輪廓儀柵網(wǎng)復(fù)型法測(cè)量濺射速率; 20193156-T-469 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 硅中硼深度剖析方法; 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 硅中硼深度剖析方法; GB/T 32495-2016 表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 硅中砷的深度剖析方法