標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 1557-2006
中文標(biāo)準(zhǔn)名稱：硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法
英文標(biāo)準(zhǔn)名稱：The method of determining interstitial oxygen content in silicon by infrared absorption
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：被代替,發(fā)布于2006-07-18; 實(shí)施于2006-11-01; 被代替于2019-06-02; 廢止
標(biāo)準(zhǔn)類型：國家標(biāo)準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)：推薦性
發(fā)布日期：2006-07-18
實(shí)施日期：2006-11-01
中國標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)：77.040.01
國際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)：77.040.01
歸口單位：中國有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì)
執(zhí)行單位：中國有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì)
主管部門：中國有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì)
起草單位：峨眉半導(dǎo)體材料廠
全部替代標(biāo)準(zhǔn)：GB 1557-1983,GB/T 1557-1989,GB/T 14143-1993
被以下標(biāo)準(zhǔn)代替：被GB/T1557-2018GB/T1557-2018全部代替
相近標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 1557-2018 硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法; 硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法; 20060512-T-610 硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法; 20151786-T-469 硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法; GB/T 1557-1989 硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法; GB/T 14144-2009 硅晶體中間隙氧含量徑向變化測量方法; 20062373-T-469 硅晶體中間隙氧含量徑向變化測量方法; GB/T 14144-1993 硅晶體中間隙氧含量徑向變化測量方法; SJ/T 10625-1995 鍺單晶中間隙氧含量的紅外吸收測量方法; GB/T 14143-1993 300～900μm硅片間隙氧含量紅外吸收測量方法