標準號：GB/T 19444-2004
中文標準名稱：硅片氧沉淀特性的測定 間隙氧含量減少法
英文標準名稱：Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
標準狀態：現行,發布于2004-02-05; 實施于2004-07-01; 廢止
標準類型：國家標準
標準性質：推薦性
發布日期：2004-02-05
實施日期：2004-07-01
中國標準分類號：29.040
國際標準分類號：29.040
歸口單位：全國半導體設備和材料標準化技術委員會
執行單位：全國半導體設備和材料標準化技術委員會
主管部門：國家標準化管理委員會
起草單位：洛陽單晶硅有限責任公司
相近標準：SJ/T 10627-1995 通過測量間隙氧含量的減少表征硅片氧沉淀特性的方法; GB/T 14143-1993 300～900μm硅片間隙氧含量紅外吸收測量方法; SJ/T 10625-1995 鍺單晶中間隙氧含量的紅外吸收測量方法; GB/T 14144-2009 硅晶體中間隙氧含量徑向變化測量方法; 20062373-T-469 硅晶體中間隙氧含量徑向變化測量方法; GB/T 14144-1993 硅晶體中間隙氧含量徑向變化測量方法; GB/T 1557-2006 硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法; GB/T 1557-2018 硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法; 硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法; 20060512-T-610 硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法