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GB/T 16524-1996 光掩模對準標記規范現行

作者：百檢網時間：2021-05-26

標準號：GB/T 16524-1996
中文標準名稱：光掩模對準標記規范
英文標準名稱：Specification for registration marks for photomasks
標準狀態：現行,發布于1996-09-09; 實施于1997-05-01; 廢止
標準類型：國家標準
標準性質：推薦性
發布日期：1996-09-09
實施日期：1997-05-01
中國標準分類號：31.200
國際標準分類號：31.200
歸口單位：全國半導體設備和材料標準化技術委員會
執行單位：全國半導體設備和材料標準化技術委員會
主管部門：國家標準化管理委員會
起草單位：中國科學院微電子中心
采標情況：本標準等效采用其他國際標準：SEMI P6:1988。
采標中文名稱:。
相近標準：SJ/T 10274-1991 掩模對準曝光機測試方法; 20154011-T-469 專用衰減式移相掩模版及掩模基板特性規范; 專用衰減式移相掩模版及掩模基板特性規范; GB/T 15871-1995 硬面光掩模基板; GB/T 16523-1996 圓形石英玻璃光掩模基板規范; 20120286-T-469 平板顯示器掩模基板規范; GB/T 34178-2017 光掩模石英玻璃基板; GB/T 15870-1995 硬面光掩模用鉻薄膜; 20141709-T-609 光掩模石英玻璃基板; SJ/T 11516-2015 薄膜晶體管（TFT）用掩模版規范

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