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GB/T 24578-2009 硅片表面金屬沾污的全反射X光熒光光譜測試方法

作者：百檢網(wǎng) 時間：2021-07-13

標準號：GB/T 24578-2009
中文標準名稱：硅片表面金屬沾污的全反射X光熒光光譜測試方法
英文標準名稱：Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy
標準類型：H80
發(fā)布日期：2009/10/30 12:00:00
實施日期：2010/6/1 12:00:00
中國標準分類號：H80
國際標準分類號：29.045
引用標準：GB/T 2828.1-2003;GB/T 14264-1993;SEMI MF 1526
適用范圍：本標準規(guī)定了硅片表面金屬沾污的全反射X光熒光光譜測試方法。本標準適用于N型和P型硅單晶拋光片、外延片等鏡面拋光的硅片，尤其適用于清洗后硅片自然氧化層，或經(jīng)化學(xué)方法生長的氧化層中沾污元素的面密度測定。本方法適用于測量面密度在(10

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