標準號:GB/T 6620-2009
中文標準名稱:硅片翹曲度非接觸式測試方法
英文標準名稱:Test method for measuring warp on silicon slices by noncontact scanning
標準類型:H82
發布日期:2009/10/30 12:00:00
實施日期:2010/6/1 12:00:00
中國標準分類號:H82
國際標準分類號:29.045
引用標準:GB/T 2828.1;GB/T 6618;GB/T 14264
適用范圍:本標準規定了硅單晶切割片、研磨片、拋光片翹曲度的非接觸式測試方法。本標準適用于測量直徑大于50mm,厚度大于180μm的圓形硅片。本標準也適用于測量其他半導體圓片的翹曲度。本測試方法的目的是用于來料驗收或過程控制。本測試方法也適用于監視器件加工過程中硅片翹曲度的熱化學效應。
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