標(biāo)準(zhǔn)號：HB 6731.12-2005
中文標(biāo)準(zhǔn)名稱：鋁合金化學(xué)成分光譜分析方法 第12部分：電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定硅含量
英文標(biāo)準(zhǔn)名稱：Mtehods for spectromertic analysis of aluminium alloys--Part 10:Determination of silicon content by inductivel coupled plasma atomic spectrometric method
標(biāo)準(zhǔn)類型：V11
發(fā)布日期：2005/12/26 12:00:00
實(shí)施日期：2006/5/1 12:00:00
中國標(biāo)準(zhǔn)分類號：V11
引用標(biāo)準(zhǔn)：HB 5218.6-2004;HB 5421;HB/Z 207
適用范圍： 警告--使用本部分的人員應(yīng)有正規(guī)實(shí)驗室工作的實(shí)踐經(jīng)驗。本部分并未指出所有可能的安全問題。使用者有責(zé)任采取適當(dāng)?shù)陌踩徒】荡胧⒎蠂矣嘘P(guān)法規(guī)規(guī)定的條件。 本部分規(guī)定了用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法（ICP-AES 法）測定鋁合金中硅含量的原理、試劑、儀器、分析步驟、分析結(jié)果的計算、允許差和質(zhì)量控制與要求。 本部分適用于鋁合金中硅含量的測定。 測定范圍: 0.05%～12.00%.