ANSI/TIA/EIA 526-4A-1997 光學(xué)直視天線輻射圖測(cè)繪方法
作者：百檢網(wǎng) 時(shí)間：2021-07-16
中文標(biāo)準(zhǔn)名稱：光學(xué)直視天線輻射圖測(cè)繪方法
英文標(biāo)準(zhǔn)名稱：Optical Eye Pattern Measurement Procedure
標(biāo)準(zhǔn)類型：M33
發(fā)布日期：1999/12/31 12:00:00
實(shí)施日期：1999/12/31 12:00:00
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)：M33
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)：33.180.01
適用范圍：This procedure describes a method of measuring the repetitive temporal characteristics of a two-level, intensity-modulated optical waveform (eye pattern) at an optical interface point. From the measured eye pattern, waveform parameters such as rise time, fall time, overshoot, and extinction ratio can be extracted. Alternatively, the waveform can be tested for compliance with a predetermined waveform mask.
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