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20192092-T-469 表面化學(xué)分析深度剖析用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法正在批準(zhǔn)

作者：百檢網(wǎng) 時間：2021-07-16

標(biāo)準(zhǔn)號：20192092-T-469
中文標(biāo)準(zhǔn)名稱：表面化學(xué)分析深度剖析用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法
英文標(biāo)準(zhǔn)名稱：Surface chemical analysis — Depth profiling — Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：正在批準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)類型：國標(biāo)計劃
發(fā)布日期：1999/12/31 12:00:00
實施日期：1999/12/31 12:00:00
中國標(biāo)準(zhǔn)分類號：中國石油大學(xué)（北京）
國際標(biāo)準(zhǔn)分類號：71.040.40
歸口單位：全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會
主管部門：國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
起草單位：清華大學(xué)
起草人：段建霞
相近標(biāo)準(zhǔn)： ?表面化學(xué)分析深度剖析用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法;GB/T
標(biāo)準(zhǔn)制修訂：制訂

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