GB/T 19921-2005 硅拋光片表面顆粒測試方法
作者：百檢網 時間：2021-07-19
中文標準名稱：硅拋光片表面顆粒測試方法
英文標準名稱：Test method of particles on silicon wafer surfaces
標準類型：H81
發布日期：2005/9/19 12:00:00
實施日期：2006/4/1 12:00:00
中國標準分類號：H81
國際標準分類號：77.040.01
引用標準：ASTM F 1620-1996;SEMI M1-0302;ASTM F 1621-1996
適用范圍： 本標準規定了應用掃描表面檢查系統(SSIS)對硅拋光片表面顆粒進行測試、計數和報告的程序。 本標準適用于硅拋光片，也可適用于硅外延片或其他鏡面拋光片（如化合物拋光片）。 本標準也可適用于觀測硅拋光片表面的劃痕、橘皮、凹坑、波紋等缺陷，但這些缺陷的檢測、分類依賴于設備的功能，并與檢測時的初始設置有關。 注：本標準涉及的方法通常選用波長(48~6 33)nm的激光光源，*常用的是488nm的氬離子激光器；目前可測量的*小值顆粒直徑為0.06μm或更小些。
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