標(biāo)準(zhǔn)號(hào):GB/T 17866-1999
中文標(biāo)準(zhǔn)名稱:掩模缺陷檢查系統(tǒng)靈敏度分析所用的特制缺陷掩模和評(píng)估測(cè)量方法準(zhǔn)則
英文標(biāo)準(zhǔn)名稱:Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems
標(biāo)準(zhǔn)類型:L56
發(fā)布日期:1999/9/13 12:00:00
實(shí)施日期:2000/6/1 12:00:00
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào):L56
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào):31.200
適用范圍: 本標(biāo)準(zhǔn)的目的是制定一套可用于評(píng)估掩模缺陷檢查系統(tǒng)靈敏度的測(cè)試掩模。這套測(cè)試掩模包括:含特制圖形缺陷的測(cè)試芯片,以及不含特制圖形缺陷的參考測(cè)試芯片。由于測(cè)試芯片是由各種單元集合而所,所以在本標(biāo)準(zhǔn)中,測(cè)試芯片是用單元圖形、單元圖形中的特制缺陷、以及單元的布局來定義的。此外,測(cè)試掩模是通過規(guī)定測(cè)試芯片的排列來定義的。本標(biāo)準(zhǔn)還講述這套掩模的用法。過去的設(shè)備在靈敏度測(cè)試中,許多設(shè)備生產(chǎn)廠家和用戶使用不同的掩模,而且每個(gè)廠家和用戶各自決定不同的測(cè)試方法。在某些情況下,迄今還沒有統(tǒng)一的測(cè)量方法或靈敏度分析方法。所以,在對(duì)各廠家的設(shè)備進(jìn)行靈敏度比較時(shí),在廠家與用戶商定規(guī)范時(shí),在用戶與用戶商定規(guī)范時(shí),都免不了要發(fā)生混淆。所以在評(píng)估掩模缺陷檢查系統(tǒng)的靈敏度時(shí),*好采用本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了的測(cè)試掩模。
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