GB/T 17866-1999 掩模缺陷檢查系統靈敏度分析所用的特制缺陷掩模和評估測量方法準則
作者：百檢網 時間：2021-07-31
中文標準名稱：掩模缺陷檢查系統靈敏度分析所用的特制缺陷掩模和評估測量方法準則
英文標準名稱：Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems
標準類型：L56
發布日期：1999/9/13 12:00:00
實施日期：2000/6/1 12:00:00
中國標準分類號：L56
國際標準分類號：31.200
適用范圍： 本標準的目的是制定一套可用于評估掩模缺陷檢查系統靈敏度的測試掩模。這套測試掩模包括：含特制圖形缺陷的測試芯片，以及不含特制圖形缺陷的參考測試芯片。由于測試芯片是由各種單元集合而所，所以在本標準中，測試芯片是用單元圖形、單元圖形中的特制缺陷、以及單元的布局來定義的。此外，測試掩模是通過規定測試芯片的排列來定義的。本標準還講述這套掩模的用法。過去的設備在靈敏度測試中，許多設備生產廠家和用戶使用不同的掩模，而且每個廠家和用戶各自決定不同的測試方法。在某些情況下，迄今還沒有統一的測量方法或靈敏度分析方法。所以，在對各廠家的設備進行靈敏度比較時，在廠家與用戶商定規范時，在用戶與用戶商定規范時，都免不了要發生混淆。所以在評估掩模缺陷檢查系統的靈敏度時，*好采用本標準規定了的測試掩模。
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