YS/T 1025-2015 電子薄膜用高純鎢及鎢合金濺射靶材
作者：百檢網 時間：2021-07-31
中文標準名稱：電子薄膜用高純鎢及鎢合金濺射靶材
英文標準名稱：High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film
標準類型：H63
發布日期：2015/4/30 12:00:00
實施日期：2015/10/1 12:00:00
中國標準分類號：H63
國際標準分類號：77.150.99
適用范圍：本標準規定了電子薄膜用高純鎢及鎢合金濺射靶材的要求、試驗方法、檢驗規則及標志、包裝、運輸、貯存、訂貨單(或合同)等內容。本標準適用于電子薄膜用高純鎢及鎢合金濺射靶材，以下簡稱高純鎢及鎢合金靶。
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