DIN 50453-2-1990 半導體工藝材料的檢驗.蝕刻混合劑浸蝕率的測定.第2部分:二氧化硅涂層.光學法
作者：百檢網 時間：2021-08-03
中文標準名稱：半導體工藝材料的檢驗.蝕刻混合劑浸蝕率的測定.第2部分:二氧化硅涂層.光學法
英文標準名稱：Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method
標準類型：H82
發布日期：1999/12/31 12:00:00
實施日期：1999/12/31 12:00:00
中國標準分類號：H82
適用范圍：The standard defines the test method for the determination of etch rates of etch mixtures on siliciumdioxid coatings.
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