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BS ISO 14701-2018 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜學(xué). 二氧化硅厚度測量

作者：百檢網(wǎng) 時(shí)間：2021-08-03

標(biāo)準(zhǔn)號：BS ISO 14701-2018
中文標(biāo)準(zhǔn)名稱：表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜學(xué). 二氧化硅厚度測量
英文標(biāo)準(zhǔn)名稱：Surface chemical analysis. X-ray photoelectron spectroscopy. Measurement of silicon oxide thickness
標(biāo)準(zhǔn)類型：G04
發(fā)布日期：2018/11/5 12:00:00
實(shí)施日期：2018/11/5 12:00:00
中國標(biāo)準(zhǔn)分類號：G04
國際標(biāo)準(zhǔn)分類號：71.040.40
引用標(biāo)準(zhǔn)：ISO 18115-1;ISO 18116;GUM-1995;ISO/TR 18392;ISO/IEC GUIDE 98-3-2008

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