20070860-T-469 高分辯率X射線衍射測量GaAs襯底生長的AlGaAs中Al成分的試驗方法 已發布
作者：百檢網 時間：2021-08-06
中文標準名稱：高分辯率X射線衍射測量GaAs襯底生長的AlGaAs中Al成分的試驗方法
英文標準名稱：Test method for measuring the Al fraction in AlGaAs on GaAs substrates by high resolution X-ray diffraction
標準狀態：已發布
標準類型：國標計劃
發布日期：1999/12/31 12:00:00
實施日期：1999/12/31 12:00:00
中國標準分類號：中國電子科技集團公司第四十六研究所
國際標準分類號：29.045
歸口單位：全國半導體設備和材料標準化技術委員會
主管部門：國家標準化管理委員會
起草單位：信息產業部專用材料質量監督檢驗中心
起草人：章安輝
相近標準：GB/T 24576-2009 ?高分辯率X射線衍射測量GaAs襯底生長的AlGaAs中Al成分的試驗方法;JB/T 8258-
標準制修訂：制訂
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