標(biāo)準(zhǔn)號:20078473-T-491
中文標(biāo)準(zhǔn)名稱:橢圓偏振儀測量硅表面上二氧化硅薄層厚度的方法
英文標(biāo)準(zhǔn)名稱:Test method for the thickness of silicon oxide on Si substrate by ellipsometer
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài):已發(fā)布
標(biāo)準(zhǔn)類型:國標(biāo)計劃
發(fā)布日期:1999/12/31 12:00:00
實施日期:1999/12/31 12:00:00
中國標(biāo)準(zhǔn)分類號:納米技術(shù)及應(yīng)用國家工程研究中心
國際標(biāo)準(zhǔn)分類號:17.040.01
歸口單位:全國納米技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會
主管部門:中國科學(xué)院
起草單位:上海交通大學(xué)
起草人:金承鈺
相近標(biāo)準(zhǔn):GB/T 31225-2014 ?橢圓偏振儀測量硅表面上二氧化硅薄層厚度的方法;GB/T 20020-2005 ?氣相二氧化硅;
標(biāo)準(zhǔn)制修訂:制訂
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