20065633-T-469 硅外延層載流子濃度測(cè)定 汞探針電容-電壓法 已發(fā)布
作者：百檢網(wǎng) 時(shí)間：2021-08-06
中文標(biāo)準(zhǔn)名稱：硅外延層載流子濃度測(cè)定 汞探針電容-電壓法
英文標(biāo)準(zhǔn)名稱：Silicon epitaxial layers-determination of carrier concentration-mercury probe voltages-capacitance method
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：已發(fā)布
標(biāo)準(zhǔn)類型：國(guó)標(biāo)計(jì)劃
發(fā)布日期：1999/12/31 12:00:00
實(shí)施日期：1999/12/31 12:00:00
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)：寧波立立電子股份有限公司
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)：29.045
歸口單位：全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
主管部門(mén)：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位：南京國(guó)盛電子有限公司
起草人：唐有青
相近標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 14146-1993 ?硅外延層載流子濃度測(cè)定 汞探針電容-電壓法;GB/T 14146-2009 ?硅外延層載流子
標(biāo)準(zhǔn)制修訂：修訂
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