光刻膠厚度檢測,光刻膠厚度測試
我們測量什么?
材料要求:
全都是至少有部分透明的薄膜,?加上所有的半導(dǎo)體?(透明或不透明)。薄膜在外觀上至少要有某種程度的光澤。
厚度范圍:?
我們能測量從?3nm 到500um 的厚度。能夠測量 70nm 到10um 厚薄膜的折射率。
可測量的層數(shù):?
我們通常能夠測量某個薄膜堆內(nèi)的*多三層獨(dú)立薄膜。?在某些情況下,我們能夠測量到幾十層。
基板材料:?
如果薄膜位于粗糙基板?(其中包括大多數(shù)金屬) 上的話, 一般不能測量薄膜的折射率。 此外,粗糙基板還將*低的可測量薄膜厚度限制為大約50nm。
所需的信息:?
我們必須知道目前存在所有薄膜的種類、特征和預(yù)估厚度,?
?
l?以上要求和標(biāo)準(zhǔn)僅供參考,具體測量建議來電和我們專業(yè)工程師直接交流。
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