? ? ? ? 鋁合金陽*氧化是氧化膜生長和溶解的動態平衡過程。鋁合金陽*氧化技術可分為直流陽*氧化，交流陽*氧化和脈沖電流陽*氧化。根據薄膜的性質可分為普通薄膜，硬質薄膜，陶瓷薄膜，光亮改性層和半導體阻隔層的作用。根據電解質可分為硫酸，鉻酸，草酸和混酸作為電解質的主要成分，天然著色陽*氧化。專業青島第三方檢測機構闡述鋁合金陽*氧化技術發展情況是怎樣的

? ? ? ? ?1. 1硫酸溶液陽*氧化普通硫酸陽*氧化可得到0. 5?20. 0微米的吸附膜，適用于一般保護或作為涂料涂料的粘合劑基料（如飛機外皮等）;硫酸陽*氧化膜是多孔的，空隙率為約35％。它廣泛用于裝飾目的。硫酸陽*氧化膜具有高耐腐蝕性，但對基體材料的疲勞性能有很大影響，不適用于點焊部件，鉚接復合部件和易于保持電解質的部件。

? ? ? ? ? 1. 2鉻酸溶液陽*氧化鋁合金鉻酸氧化膜比硫酸氧化膜薄得多，通常只有2~5微米，顏色從灰色到深灰色，一般不能染色，可以保持原有部件的精度和表面粗糙度。薄膜柔軟有彈性，不能明顯降低基材的疲勞強度，但耐磨性不如硫酸陽*氧化膜。鉻酸氧化膜是緊湊的并且具有樹狀分支結構。它可以在氧化后無需密封處理使用。與相同厚度的未密封硫酸氧化膜相比，它具有良好的涂層附著力和更高的耐腐蝕性。由于鉻酸對銅的溶解度較高，因此質量分數大于4％的鋁合金通常不適合鉻酸陽*氧化。在溶液成本和功耗方面，鉻酸陽*氧化比硫酸陽*氧化更昂貴，并且會造成環境污染。即使采取環保措施，也會增加該過程的成本。因此，使用受到一定的限制。