主要規格及技術指標

1.總體要求：設備在滿足分辨率的前提下，成像快速，放置環境要求低，可隨意搬動，維護周期長 2.儀器形態：小型、桌面，可移動，要求具有防震設計，可擺放于普通實驗室桌面使用，要求儀器主機體積不超過 300mm*600mm*500mm（W*D*H），重量不超過 75kg，安裝占地面積不超過 1.5m*1m； 3.無需建立專用的抗震實驗室或獨立的抗震臺來擺放，可不用減震裝置就能放置在二樓以上樓層 4.光學放大倍率：嵌入式獨立彩色光學顯微鏡，20-135 倍 5.電子放大： 80-130,000 倍（非數字放大） 6.電子光學分辨率：優于 10nm 7.觀察狀態下可以實時測量功能 8.電子光學照明：CeB6 晶體燈絲，非鎢燈絲 9.單根燈絲壽命：≥1500 小時 10.電子槍加速電壓：5kV-15kV 連續可調，調節步進 0.1kv 11.電子光學探測器類型：高靈敏四分割背散射電子探測器，可同時顯示成分和形貌信息； 12.X射線能譜探測器類型：硅漂移（SＤＤ）探測器類型，可實現微區定向分析，即點擊感興趣的部位，即可完成該點的元素定量定性分析 13.能譜探測器冷卻方式：無液氮消耗，采用半導體 Peltier 效應制冷 14.能譜探頭要求超薄 Si3N4 窗口，有效晶體面積 25mm2 15.元素探測范圍：B（5）-Am（95） 16.能譜探測器能量分辨率：<137eV（Mn Kα) 17.完全集成在內部的能譜分析儀，不需要單獨安裝，并且由同一廠家進行技術服務； 18.電鏡載樣抽真空時間：小于 30 秒 19.樣品臺移動方式：軟件控制的馬達驅動，通過鼠標點擊目標區域后，樣品臺自動移動至目標區域畫面居中，可實現電鏡圖像即點即得功能 20.具有樣品拍攝位置返回功能（返回指定照片位置） 21.軟件平臺：不易受病毒影響的 linux 系統，支持 U 盤及網絡存儲圖像 22.網絡遠程檢測功能：可通過互聯網遠程控制及監測儀器 23.圖像觀測導航界面：彩色光學導航和電子圖像局部導航同時顯示

主要功能及特色

Phenom掃描電子顯微鏡主要用于對材料微觀形貌的觀察與測量。該款電鏡型號ProX，具有*大13.5萬倍的放大倍數以及優于10nm的分辨率。同時，Phenom掃描電子顯微鏡集成了EDS探頭，具有元素分析的功能。Phenom掃描電子顯微鏡允許客戶在觀察材料的微觀形貌的同時，通過點掃、線掃和面掃的方式獲取材料某個位置或者某個區域的元素含量和元素分布。 主要用途：進行納米材料的微觀組織和形貌觀測。快速、方便的對材料的微觀尺寸、形狀及表面形態等特性進行表征，獲得樣品重要的表面信息，是開發新型材料不可或缺的工具。 功能：1. 臺式掃描電鏡主用于表征粉末，高分子材料、金屬材料、無機非金屬材料、生命科學領域材料的微觀形貌，是實驗室必備設備之一，可用于科研及社會服務中。 2. 用于定性半定量分析材料表面的元素成分。