作者:百檢網 時間:2021-11-11 來源:互聯網
襯底纏繞在收放卷筒上,收卷筒采用步進電機+精密行星減速器+磁流體密封組件帶動轉動,樣品移動速度:5—10mm/min,連續可調、 自動控制。在襯底背面對襯底加熱,加熱爐為電阻式,樣品加熱溫度:室溫~200℃,加熱控溫采用自動溫度控制器,加熱面積140´100 mm2
本系統為在柔性襯底上連續鍍膜的高真空磁控濺射設備,用于鍍制單層膜。
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http://cmns.fudan.edu.cn/Data/View/226
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