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單室磁控濺射系統

作者:百檢網 時間:2021-11-11 來源:互聯網

主要技術指標

單室磁控濺射系統 真空室尺寸:圓筒型真空室 ,Ф450 x350mm 真空系統配置:復合分子泵、機械泵、閘板閥 *限壓力:≤6.67x10-5Pa (經烘烤除氣后) 恢復真空時間:40分鐘可達到6.6x10-4Pa (系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣) 磁控靶組件:永磁靶3套 靶配有屏蔽罩 電動控制擋板 靶材尺寸Φ60mm ( 其中一個可以濺射磁性材料,一個可以實現射頻濺射) 各靶射頻濺射與直流濺射兼容,靶內有水冷 三個靶可共同折向上面的樣品中心,靶與樣品距離90-110mm可調 當直接向上濺射時,靶與樣品距離40-80mm可調 單機片水冷加熱臺: 基片結構 基片加熱與水冷獨立工作,取下加熱爐可以換上水冷基片臺 樣品尺寸:Φ30mm 運動方式: 基片可連續回轉,轉速5~10

主要功能/應用范圍

磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點,而上世紀發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰*表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

服務內容

服務的典型成果

對外開放共享規定

參考收費標準

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