1.范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用透明硝化纖維膜料、醋酸纖維素或塑料材料(帶有或不帶有載體)進(jìn)行表面檢測(cè)的復(fù)型技術(shù),該技術(shù)用于記錄由機(jī)械或冶金原因引起的金屬表面狀態(tài)的不均勻性。

本標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定方法的優(yōu)點(diǎn)在于適用于某些難以檢測(cè)的部位或不允許破壞的工件。而且,復(fù)型件能在現(xiàn)場(chǎng)用低倍光學(xué)裝置觀測(cè)或帶到實(shí)驗(yàn)室在高倍金相顯微鏡下檢測(cè)。

2.檢測(cè)面的制備

2.1 清潔檢測(cè)面

應(yīng)充分清潔被檢表面、去除油脂并于燥。采用合適的溶劑,用丙酮或無水酒精清除表面油脂,并使用加熱空氣吹干表面。

2.2 宏觀檢測(cè)面的制備

宏觀檢測(cè)面的制備適用于各類表面,包括因運(yùn)行情況造成的破裂面。按2.1規(guī)定,只需要對(duì)檢測(cè)面進(jìn)行表面清潔、去除油脂和干燥。

2.3 微觀檢測(cè)面的制備

2.3.1 檢測(cè)目的在于顯示出表面冶金狀態(tài)。去除油脂后,表面應(yīng)進(jìn)行一系列細(xì)致的機(jī)械研磨,這種研磨后道工序應(yīng)比前道工序更細(xì)。通常,表面研磨深度在0.2mm以內(nèi)。許多情況下,研磨深度是很淺的。進(jìn)行研磨操作時(shí),不應(yīng)產(chǎn)生過大的壓力,以免過熱出現(xiàn)金屬加工硬化。每次研磨方向宜與上次研磨方向交叉或垂直,并在每次操作后用丙酮或無水酒精清潔表面。

2.3.2 上述機(jī)械研磨后,需進(jìn)行*后拋光。這種拋光可采用以下任何一種方法:

a) 通過選擇適當(dāng)?shù)脑O(shè)備和電解液進(jìn)行電解法;

b) 在小電解槽內(nèi)電解的方法;

c) 為產(chǎn)生符合要求的表面,可用金剛石研磨軟膏、氧化鋁或其他化合物進(jìn)行機(jī)械拋光。

拋光完成后,表面應(yīng)如2.1所述進(jìn)行清潔和干燥。表面準(zhǔn)備的*后階段是用適當(dāng)?shù)脑噭┻M(jìn)行適度浸蝕。浸蝕后,表面應(yīng)如2.1所述再次清潔和干燥。

3.復(fù)型操作

3.1 概述

應(yīng)確保在盡可能干燥且已去除所有灰塵的條件下進(jìn)行復(fù)型操作。

3.2 膜料復(fù)型

膜料應(yīng)是透明的并且以硝化纖維、醋酸纖維素或塑料為基本原料。應(yīng)用前要特別注意不應(yīng)攪動(dòng)膜料,否則會(huì)形成氣泡,對(duì)結(jié)果產(chǎn)生不利影響。膜料應(yīng)鋪展在被檢表面,形成一層厚度均勻的薄層,膜料必須均勻、無氣泡和刷痕,然后根據(jù)膜料制造商的使用說明書進(jìn)行于燥。

3.3 膜片復(fù)型

3.3.1 在被檢表面用適宜的溶劑潤(rùn)濕。選取具有合適成分、尺寸以及厚度的確保穩(wěn)定性和代表性的復(fù)型膜的片狀塑料材料施加于被檢表面上。

3.3.2 建議操作時(shí)把塑料膜片中心部位放于接近被檢表面的中央。這樣有利于排除多余溶劑,而且能避免皺折和氣泡的形成。為了有助于塑料膜片粘在金屬表面,可用手指對(duì)塑料膜片施加些壓力,壓力由中間向兩邊方向由內(nèi)向外施加。

4.從表面剝離復(fù)型件

4.1 復(fù)型件應(yīng)非常小心地從表面剝離并保證其完整。

4.2 宜非常小心地保持平穩(wěn)連續(xù)地操作,避免操作時(shí)在復(fù)型件上留下指印。

5.復(fù)型件的安置和觀察

5.1 復(fù)型件應(yīng)在反射光或透射光中觀察。用反射光觀察時(shí),復(fù)型件應(yīng)固定在具有良好反射面的鏡子或金屬板上(例如用膠粘帶方法),使含有印記的表面朝著顯微鏡的物鏡。另一種是用真空鋁沉積法,把鋁或其他合適金屬沉積在不含印記的表面作為反射面。

5.2 用透射光觀察時(shí),把復(fù)型件作為一種幻燈片,安置在兩塊玻璃板之間,使復(fù)型件的圖像投影在屏幕上。

注1:為確保復(fù)型件不受損傷,一是安置時(shí)避免復(fù)型件被拉伸而產(chǎn)生變形,二是避免由于檢測(cè)時(shí)光源過熱而使復(fù)型件損壞。

注2:復(fù)型膜片有時(shí)因與被檢表面粘合緊密,難以揭下,可將與膜片寬度相當(dāng)?shù)乃芰贤该髂z帶紙覆蓋粘貼在復(fù)型膜片的表面,然后再將塑料透明膠帶紙與復(fù)型膜片一同揭下。

注3:作為另一種選擇方案,用真空沉積法,也可將鋁或其他合適金屬直接沉積在含有印記的表面,提高復(fù)型膜片的襯度。

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