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XPS測試_X射線光電子能譜_服務

作者:百檢網(wǎng) 時間:2021-12-06 來源:互聯(lián)網(wǎng)

X射線光電子能譜(XPS),基于光電離作用,當一束光子輻射到樣品表面時,光子可以被樣品中某一元素的原子軌道上的電子所吸收,使該原子解脫原子核的束縛,以一定的動能從原子內(nèi)部發(fā)射出來,變成自由的光電子,而原子本身則變成一個激發(fā)態(tài)的離子。當固定激發(fā)源能量時,其光電子的能量僅與元素的種類和所電離激發(fā)的原子軌道有關(guān),由此根據(jù)光電子的結(jié)合能定性分析物質(zhì)的元素種類。經(jīng)X射線輻照后,從樣品表面射出的光電子的強度與樣品中該原子的濃度呈線性關(guān)系,可以進一步進行元素的半定量分析。另外,XPS的重要應用是對元素的化學價態(tài)進行分析。

儀器技術(shù)參數(shù)

離子源:100-4000eV

束斑直徑:1-10mm

濺射速率范圍:0.1-50nm/min

采樣深度:金屬0.5-2nm,無機物1-3nm,有機物3-10nm

送樣要求

固體粉末:均勻干燥,粒度小于70um(過200目),質(zhì)量不少于100 mg;

塊體、金屬及薄膜樣,長寬小于10mm,高度小于5mm。

對含有揮發(fā)性、油污污染物的樣品許提前去除,**禁止分析帶有磁性的樣品。

應用

在化學、材料科學及表面科學中具有廣泛的應用價值。

  1. 表面元素定性分析
  2. 表面元素的半定量分析
  3. 表面元素的化學價態(tài)分析
  4. 元素沿深度方向的分布分析

常見譜圖

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常見適用標準

ISO 16531-2013? 表面化學分析.深度剖析.原子發(fā)射光譜(AES)和光電子能譜(XPS)中深度剖析用電流或電流密度的離子束校正和相關(guān)測量方法

專業(yè)、高效、精準、高性價比是上海劑拓材料科技有限公司的服務宗旨。

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