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GB/T 15909-2009 電子工業用氣體 硅烷(SiH4)

作者：百檢網 時間：2022-10-18

標準簡介

本標準規定了硅烷氣體的技術要求、試驗方法以及包裝、標志、貯運及安全。 本標準適用于電子工業中多晶硅和單晶硅外延淀積、二氧化硅的低溫化學汽相淀積、非晶硅薄膜淀積等。
英文名稱：Gas for electronic industry—Silane
標準狀態：作廢
替代情況：替代GB/T 15909-1995;被GB/T 15909-2017代替
中標分類：化工>>其他化工產品>>G86工業氣體與化學氣體
ICS分類：化工技術>>化工產品>>71.100.20工業氣體
發布部門：國家質量監督檢驗檢疫.
發布日期：2009-10-30
實施日期：2010-05-01
作廢日期：2017-12-01
出版日期：2010-05-01
頁數：12頁

前言

本標準代替GB/T15909-1995《電子工業用氣體 硅烷》。本標準與GB/T15909-1995相比主要變化如下:---修改規范性引用文件(GB/T15909-1995的第2章,本版的第2章);---修改技術指標內容:增加一類產品純度和雜質含量,用Cl- 表示氯化物總量(GB/T15909-1995的3.1,本版的3.1);---修改電性能規格(GB/T15909-1995的3.2,本版的3.3);---增加硅烷的采樣安全要求(見4.1.2);---增加對硅烷尾氣處理的要求(見4.3);---修改一氧化碳、二氧化碳、氧和氮含量的測定(GB/T15909-1995的4.2、4.6,本版的4.4);---修改測定氯化物含量所用試劑和溶液的內容(GB/T15909-1995的4.3.4,本版的4.5.4);---修改測定氯化物含量結果處理公式(GB/T15909-1995的4.3.6,本版的4.5.6);---增加其他方法測定氯化物含量(見4.5.7);---修改烴(C1~C3)含量的測定(GB/T15909-1995的4.4,本版的4.6);---增加其他方法測定氫含量(見4.7.6);---增加其他方法測定水含量(見4.8);---增加微量甲硅醚,乙硅烷和甲基硅烷含量的測定(見4.9);---增加金屬離子含量的測定(見4.10);---修改標志、包裝、貯運及安全(GB/T15909-1995的第5章,本版的第5章)。本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會提出。本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會氣體分會歸口。本標準起草單位:浙江大學材化學院半導體材料研究所、西南化工研究設計院。本標準主要起草人:余京松、周鵬云。本標準所代替標準的歷次版本發布情況為:---GB/T15909-1995。

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