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產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 24578-2015 硅片表面金屬沾污的全反射X光熒光光譜測試方法

作者：百檢網(wǎng) 時(shí)間：2022-10-21

標(biāo)準(zhǔn)簡介

1.1 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用全反射X光熒光光譜定量測定硅拋光襯底表面層的元素面密度的方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于硅單晶拋光片、外延片(以下稱硅片)尤其適用于硅片清洗后自然氧化層或經(jīng)化學(xué)方法生長的氧化層中沾污元素面密度的測定測定范圍為109 atoms/cm2~1015 atoms/cm2。本標(biāo)準(zhǔn)同樣適用于其他半導(dǎo)體材料如砷化鎵、碳化硅、SOI等鏡面拋光晶片表面金屬沾污的測定。 1.2 對(duì)良好的鏡面拋光表面可探測深度約5nm分析深度隨表面粗糙度的改善而增大。 1.3 本方法可檢測元素周期表中原子序數(shù)16(S)~92(U)的元素尤其適用于測定以下元素：鉀、鈣、鈦、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、砷、鉬、鈀、銀、錫、鉭、鎢、鉑、金、汞和鉛。 1.4 本方法的檢測限取決于原子序數(shù)、激勵(lì)能、激勵(lì)X射線的光通量、設(shè)備的本底積分時(shí)間以及空白值。對(duì)恒定的設(shè)備參數(shù)無干擾檢測限是元素原子序數(shù)的函數(shù)其變化超過兩個(gè)數(shù)量級(jí)。重復(fù)性和檢測限的關(guān)系見附錄A。 1.5 本方法是非破壞性的是對(duì)其他測試方法的補(bǔ)充與不同表面金屬測試方法的比較及校準(zhǔn)樣品的標(biāo)定參見附錄B。
英文名稱：Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行
替代情況：替代GB/T 24578-2009
中標(biāo)分類：冶金>>金屬化學(xué)分析方法>>H17半金屬及半導(dǎo)體材料分析方法
ICS分類：冶金>>77.040金屬材料試驗(yàn)
發(fā)布部門：國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫.
發(fā)布日期：2015-12-10
實(shí)施日期：2017-01-01
出版日期：2017-01-01
頁數(shù)：16頁

前言

半金屬及半導(dǎo)體材料分析方法相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)

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