作者:百檢網 時間:2022-10-21
標準簡介
本標準規(guī)定了重摻n型硅襯底中硼沾污的二次離子質譜測試方法。本標準適用于二次離子質譜法(SIMS)對重摻n型硅襯底單晶體材料中痕量硼沾污(總量)的測試。 1.2 本標準適用于對銻?砷?磷的摻雜濃度<0.2%(1×1020atoms/cm3)的硅材料中硼濃度的檢測。 特別適用于硼為非故意摻雜的p 型雜質,且其濃度為痕量水平(<5×1014 atoms/cm3)的硅材料的測試。 本標準適用于檢測硼沾污濃度大于SIMS 儀器檢測限(根據儀器的型號不同,檢測限大約在5×1012atoms/cm3~5×1013atoms/cm3)兩倍的硅材料。前言
本標準修改采用SEMIMF1528??1104《用二次離子質譜法測量重攙雜N 型硅襯底中的硼污染的方法》。本標準對SEMIMF1528??1104格式進行了相應調整。為了方便比較,在資料性附錄B 中列出了本標準章條和SEMIMF1528??1104章條對照一覽表。并對SEMIMF1528??1104條款的修改處用垂直單線標識在它們所涉及的條款的頁邊空白處。本標準與SEMIMF1528??1104相比,主要技術差異如下:---去掉了目的?關鍵詞;---將實際測試得到的單一試驗室的精密度結果代替原標準中的精度和偏差部分,并將原標準中的精度和偏差部分作為資料性附錄A 。本標準附錄A 和附錄B為資料性附錄。本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會提出。本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料分技術委員會歸口。本標準起草單位:信息產業(yè)部專用材料質量監(jiān)督檢驗中心?中國電子科技集團公司第四十六研究所。本標準主要起草人:馬農農、何友琴、丁麗。1、檢測行業(yè)全覆蓋,滿足不同的檢測;
2、實驗室全覆蓋,就近分配本地化檢測;
3、工程師一對一服務,讓檢測更精準;
4、免費初檢,初檢不收取檢測費用;
5、自助下單 快遞免費上門取樣;
6、周期短,費用低,服務周到;
7、擁有CMA、CNAS、CAL等權威資質;
8、檢測報告權威有效、中國通用;
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