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GB 50809-2012 硅集成電路芯片工廠設計規范

作者:百檢網 時間:2022-10-22

標準簡介

本規范是一項新頒布的國家標準,由中華人民共和國住房和城鄉建設部第1497號公告批準,編號為GB50809-2012,自2012年12月1日實施。其中有4條為強制性條文,必須嚴格執行。   本規范適用于新建、改建、擴建的硅集成電路芯片工廠的工程設計。
英文名稱:Code for design of silicon integrated circuits wafer fab
標準狀態:現行
發布部門:住房和城鄉建設部
發布日期:2012-10-11
實施日期:2012-12-01
出版日期:2013-04-01
頁數:96頁

前言

1 總 則 2 術 語 3 工藝設計 3.1 一般規定 3.2 技術選擇 3.3 工藝布局4 總體設計4.1 廠址選擇4.2 總體規劃及布局5 建筑與結構 5.1 建筑5.2 結構5.3 防火疏散 6 防微振 6.1 一般規定6.2 結構6.3 機械7 冷熱源 8 給排水及消防 8.1 一般規定8.2 給排水8.3 消防8.4 滅火器 9 電 氣 9.1 供配電9.2 照明 9.3 接地9.4 防靜電 9.5 通信與安全保護9.6 電磁屏蔽 10 工藝相關系統10.1 凈化區10.2 工藝排風10.3 純水10.4 廢水10.5 工藝循環冷卻水10.6 大宗氣體10.7 干燥壓縮空氣10.8 真空10.9 特種氣體10.10 化學品 11 空間管理12 環境安全衛生本規范用詞說明引用標準名錄附:條文說明

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