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GB/T 39145-2020 硅片表面金屬元素含量的測定電感耦合等離子體質(zhì)譜法

作者：百檢網(wǎng) 時間：2022-10-22

標(biāo)準(zhǔn)簡介

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電感耦合等離子體質(zhì)譜法（ICP-MS）測定硅片表面金屬元素含量的方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于硅單晶拋光片和硅外延片表面痕量金屬鈉、鎂、鋁、鉀、鈣、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅元素含量的測定，測定范圍為108 cm-2～1013cm-2。本標(biāo)準(zhǔn)同時也適用于硅退火片、硅擴散片等無圖形硅片表面痕量金屬元素含量的測定。
英文名稱：Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行
中標(biāo)分類：冶金>>金屬化學(xué)分析方法>>H17半金屬及半導(dǎo)體材料分析方法
ICS分類：冶金>>77.040金屬材料試驗
發(fā)布部門：國家市場監(jiān)督管理總局.
發(fā)布日期：2020-10-11
實施日期：2021-09-01
出版日期：2020-10-01
頁數(shù)：12頁

前言

半金屬及半導(dǎo)體材料分析方法相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)

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