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GB/T 41153-2021 碳化硅單晶中硼、鋁、氮雜質含量的測定二次離子質譜法

作者：百檢網時間：2022-10-23

標準簡介

本文件規定了碳化硅單晶中硼、鋁、氮雜質含量的二次離子質譜測試方法。本文件適用于碳化硅單晶中硼、鋁、氮雜質含量的定量分析，測定范圍為硼含量不小于5×1013 cm-3、鋁含量不小于5×1013 cm-3、氮含量不小于5×1015 cm-3，元素濃度（原子個數百分比）不大于1%。
英文名稱：Determination of boron,aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
標準狀態：現行
中標分類：冶金>>金屬化學分析方法>>H17半金屬及半導體材料分析方法
ICS分類：冶金>>77.040金屬材料試驗
發布部門：國家市場監督管理總局.
發布日期：2021-12-31
實施日期：2022-07-01
出版日期：2021-12-01
頁數：8頁

前言

半金屬及半導體材料分析方法相關標準

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