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GB/T 4326-2006 非本征半導(dǎo)體單晶霍爾遷移率和霍爾系數(shù)測量方法

作者：百檢網(wǎng) 時間：2022-10-23

標(biāo)準簡介

本標(biāo)準規(guī)定的測量方法適用于非本征半導(dǎo)體單晶材料的霍爾系數(shù)、載流子霍爾遷移率、電阻率和載流子濃度。本標(biāo)準規(guī)定的測量方法僅在有限的范圍內(nèi)對鍺、硅、砷化鎵單晶材料進行了實驗室測量，但該方法也可適用于其他半導(dǎo)體單晶材料，一般情況下，適用于室溫電阻率高達104Ω·cm
英文名稱：Extrinsic semiconductor single crystals measurement of Hall mobility and Hall coefficient
標(biāo)準狀態(tài)：現(xiàn)行
替代情況：替代GB/T 4326-1984
中標(biāo)分類：冶金>>金屬理化性能試驗方法>>H21金屬物理性能試驗方法
ICS分類：冶金>>金屬材料試驗>>77.040.01金屬材料試驗綜合
發(fā)布部門：國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫.
發(fā)布日期：2006-07-18
實施日期：2006-11-01
出版日期：2006-11-01
頁數(shù)：15頁

前言

金屬物理性能試驗方法相關(guān)標(biāo)準

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