GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技術 版圖設計基本規則
作者：百檢網 時間：2022-10-23
標準簡介
本標準規定了微結構加工時,光刻版圖設計中圖形設計應遵循的基本規則。本標準適用于采用接觸式單/雙面光刻、氧化擴散、化學氣相淀積(CVD)、物理氣相淀積(PVD)、離子注入、反應離子刻蝕(RIE)、氫氧化鉀(KOH)腐蝕、硅-玻璃對準靜電結合、砂輪劃片等基本工藝方法。英文名稱：Silicon-based MEMS fabrication technology—The basic regulation of layout design
標準狀態：現行
中標分類：電子元器件與信息技術>>微電路>>L55微電路綜合
ICS分類：電子學>>31.200集成電路、微電子學
發布部門：國家質量監督檢驗檢疫.
發布日期：2012-05-11
實施日期：2012-12-01
出版日期：2012-12-01
頁數：16頁
前言
本標準按照GB/T1.1—2009給出的規則起草。本標準由全國微機電技術標準化技術委員會(SAC/TC336)提出并歸口。本標準起草單位:北京大學、中機生產力促進中心、中國電子科技集團第十三研究所、中國科學院上海微系統與信息技術研究所、西北工業大學。本標準主要起草人:張大成、王瑋、劉偉、楊芳、姜森林、崔波、熊斌、喬大勇。相關標準
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