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GB/T 29844-2013 用于先進集成電路光刻工藝綜合評估的圖形規范

作者：百檢網時間：2022-10-24

標準簡介

本標準規定了用于先進集成電路光刻工藝綜合評估的標準測試圖形單元的形狀、一般尺寸,以及推薦的布局和設計規則,這些標準測試圖形包括可供光學顯微鏡和掃描電子顯微鏡用的各種圖形單元。本標準適用集成電路的工藝、常規掩模版、光致抗蝕劑和光刻機的特征和能力作出評價及交替移相掩模版相位測量,適用于g線、i線、KrF、ArF等波長的光刻設備及相應的光刻工藝。
英文名稱：Specifications for metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
標準狀態：現行
中標分類：電子元器件與信息技術>>電子設備專用材料、零件、結構件>>L90電子技術專用材料
ICS分類：31.030
發布部門：國家質量監督檢驗檢疫.
發布日期：2013-11-12
實施日期：2014-04-15
出版日期：2014-04-15
頁數：12頁

前言

本標準按照GB/T1.1—2009給出的規則起草。請注意本文件的某些內容可能涉及專利。本文件的發布機構不承擔識別這些專利的責任。本標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會(SAC/TC203)提出并歸口。本標準起草單位:上海華虹NEC電子有限公司。本標準主要起草人:王雷、伍強、朱駿、陳寶欽。

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