GB/T 30118-2013 聲表面波（SAW）器件用單晶晶片規(guī)范與測(cè)量方法
作者：百檢網(wǎng) 時(shí)間：2022-10-24
標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了人造石英、鈮酸鋰(LN)、鉭酸鋰(LT)、四硼酸鋰(LBO)和硅酸鎵鑭(LGS)等單晶晶片等。本標(biāo)準(zhǔn)適用于人造石英、鈮酸鋰(LN)、鉭酸鋰(LT)、四硼酸鋰(LBO)和硅酸鎵鑭(LGS)等單晶晶片。這些單晶晶片用作聲表面波(SAW)濾波器和諧振器等基片材料。英文名稱：Single crystal wafers for surface acoustic wave(SAW) device applications—Specifications and measuring methods
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行
中標(biāo)分類：電子元器件與信息技術(shù)>>電子元件>>L21石英晶體、壓電元件
ICS分類：電子學(xué)>>31.140壓電器件和介質(zhì)器件
發(fā)布部門：國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫.
發(fā)布日期：2013-12-17
實(shí)施日期：2014-05-15
出版日期：2014-05-15
頁數(shù)：36頁
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。本標(biāo)準(zhǔn)使用翻譯法修改采用IEC62276:2005《聲表面波(SAW)器件用單晶晶片規(guī)范與測(cè)量方法》。本標(biāo)準(zhǔn)在采用國際標(biāo)準(zhǔn)時(shí)進(jìn)行了修改。這些技術(shù)性差異用垂直單線標(biāo)識(shí)在它們所涉及的條款的頁邊空白處。在附錄C中給出了技術(shù)性差異及其原因的一覽表以供參考。本標(biāo)準(zhǔn)還作了下列編輯性修改:———?jiǎng)h除了IEC標(biāo)準(zhǔn)前言。———在引用標(biāo)準(zhǔn)中,用GB/T3505《產(chǎn)品幾何技術(shù)規(guī)范(GPS) 表面結(jié)構(gòu) 輪廓法 術(shù)語、定義及表面結(jié)構(gòu)參數(shù)》代替ISO4287;用GB/T2828.1《計(jì)數(shù)抽樣檢驗(yàn)程序 第1部分:按接收質(zhì)量限(AQL)檢索的逐批檢驗(yàn)抽樣計(jì)劃》代替IEC60410;用GB/T3352《人造石英晶體 規(guī)范與使用指南》代替IEC60758;此外,還增加了GB/T6618《硅片厚度和總厚度變化測(cè)試方法》。———在圖1中原文把第二基準(zhǔn)面與基準(zhǔn)面畫成一樣,是不正確的,產(chǎn)品加工中第二基準(zhǔn)面應(yīng)比基準(zhǔn)面短,以便區(qū)分。本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國工業(yè)和信息化部提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國頻率控制和選擇用壓電器件標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC182)歸口。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:中國電子科技集團(tuán)第二十六研究所、中國電子科技集團(tuán)德清華瑩電子有限公司、北京石晶光電科技有限公司。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:張小梅、蔣春健、吳兆剛、吳劍波、趙雄章、周洋舟。相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)
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