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GB/T 30701-2014 表面化學分析硅片工作標準樣品表面元素的化學收集方法和全反射X射線熒光光譜法(TXRF)測定

作者：百檢網時間：2022-10-24

標準簡介

本標準規(guī)定了硅片工作標準樣品表面元素鐵和/或鎳的化學收集方法(氣相分解法或直接酸性液滴分解法)和全反射X射線熒光光譜法(TXRF)測定。注:可采用石墨爐原子吸收光譜法或電感耦合等離子體質譜法代替全反射X 射線熒光光譜法來測定所收集的元素。本標準適用于原子表面密度介于6×109atoms/cm2~5×1011atoms/cm2 范圍的鐵和/或鎳。
英文名稱：Surface chemical analysis—Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence(TXRF) spectroscopy
標準狀態(tài)：現(xiàn)行
中標分類：化工>>化工綜合>>G04基礎標準與通用方法
ICS分類：化工技術>>分析化學>>71.040.40化學分析
發(fā)布部門：國家質量監(jiān)督檢驗檢疫.
發(fā)布日期：2014-06-09
實施日期：2014-12-01
出版日期：2014-12-01
頁數(shù)：24頁

前言

本標準按照GB/T1.1—2009給出的規(guī)則起草。本標準使用翻譯法等同采用ISO17331:2004《表面化學分析硅片工作標準樣品表面元素的化學收集方法和全反射X射線熒光光譜法(TXRF)測定》。本標準納入了ISO17331:2004/Amd.1:2010的修正內容,這些修正內容涉及的條款已通過在其外側頁邊空白位置的垂直雙線(‖)進行了標示。本標準由全國微束分析標準化技術委員會(SAC/TC38)提出并歸口。本標準起草單位:中國計量科學研究院。本標準主要起草人:王海、宋小平、王梅玲、高思田、馮流星。

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