GB/T 34326-2017 表面化學分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析時離子束對準方法及其束流或束流密度測量方法
作者：百檢網 時間：2022-10-24
標準簡介
本標準規定了在俄歇電子能譜（AES）和X射線光電子能譜（XPS）中使用惰性氣體離子以保證濺射深度剖析具有好的深度分辨率以及*佳表面清潔效果而采取的離子束對準方法。這些方法分為兩類：一類通過法拉第杯測量離子束流，另一類通過成像方法。法拉第杯方法也規定了離子束束流密度和束流分布的測量。這些方法不包括深度分辨率的優化。 這些方法均適用于束斑直徑小于1 mm的離子槍。英文名稱：Surface chemical analysis—Depth profiling—Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS
標準狀態：現行
中標分類：化工>>化工綜合>>G04基礎標準與通用方法
ICS分類：化工技術>>分析化學>>71.040.40化學分析
發布部門：國家質量監督檢驗檢疫.
發布日期：2017-09-29
實施日期：2018-08-01
出版日期：2017-10-01
頁數：20頁
前言
基礎標準與通用方法相關標準相關標準
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