標準簡介

本標準規(guī)定了高純砷中金屬雜質含量的測定方法，采用電感耦合等離子質譜法測定砷中鎂、鉻、鎳、銅、鋅、銀、銻、鉛、鉍、鈉、鉀、鋁、鈣、鐵等14個雜質含量。本標準適用于99.999%～99.99999%高純砷中金屬雜質含量的測定。測定范圍1×10-7% ～1000×10-7% 。
英文名稱：Method for chemical analysis of the high-purity arsenic—Inductive coupling plasma mass spectrum (ICP-MS) for determinating the concentration of elements in the high-purity arsenic
標準狀態(tài)：現(xiàn)行
替代情況：替代YS/T 34.1～34.2-1992
中標分類：冶金>>金屬化學分析方法>>H17半金屬及半導體材料分析方法
ICS分類：冶金>>金屬材料試驗>>77.040.30金屬材料化學分析
發(fā)布部門：工業(yè)和信息化部
發(fā)布日期：2011-12-20
實施日期：2012-07-01
出版日期：2012-07-01
頁數(shù)：12頁

前言

YS/T34《高純砷化學分析方法》包括3個部分:———第1部分:高純砷化學分析方法 電感耦合等離子體質譜法(ICP-MS)測定高純砷中雜質含量;———第2部分:高純砷化學分析方法 *譜法測定硒量;———第3部分:高純砷化學分析方法 *譜法測定硫量。本部分是YS/T34的第1部分。本部分代替YS/T34.1—1992《高純砷化學分析方法 孔雀綠分光光度法測定銻量》和YS/T34.2—1992《高純砷化學分析方法 化學光譜法測鈷、鋅、銀、銅、鈣、鋁、鎳、鉻、鉛、鎂、鐵量》。本部分與YS/T34.1~34.2—1992標準相比,主要有如下變動:———采用電感耦合等離子質譜法測定高純砷中鎂、鉻、鎳、銅、鋅、銀、鉛、鉍、鈉、鉀、鋁、鈣、鐵、銻等14個雜質的含量。———按照GB/T1.1—2009《標準化工作導則 第1部分:標準的結構和編寫》的規(guī)定編寫。本部分由全國有色金屬標準化技術委員會歸口。本部分負責起草單位:峨嵋半導體材料廠、峨眉山嘉美高純材料有限公司。本部分主要起草人:程高明、鄒同貴、文英、唐云博、廖敏。本部分所代替標準的歷次版本發(fā)布情況為:———YS/T34.1~34.2—1992。